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  • MS450科研鍍膜機(jī)

    1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。$n2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。$n3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。

    訪問(wèn)次數(shù):1070
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    更新日期:2024-08-07
  • MS450實(shí)驗(yàn)室鍍膜機(jī)

    1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。$n2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。$n3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小

    訪問(wèn)次數(shù):884
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    更新日期:2024-08-07
  • MS450小型鍍膜設(shè)備

    1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。$n2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。$n3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。

    訪問(wèn)次數(shù):1069
    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    更新日期:2024-08-07
  • MS450小型真空鍍膜機(jī)

    1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。$n2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。$n3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。

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    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    更新日期:2024-08-07
  • MS450實(shí)驗(yàn)室真空鍍膜設(shè)備

    實(shí)驗(yàn)室真空鍍膜設(shè)備主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類(lèi),包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子槍加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

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    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    更新日期:2024-08-07
  • MS450鍍膜設(shè)備

    1.MS450是一臺(tái)高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備。$n2.設(shè)備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺(tái)、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。$n3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。

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    產(chǎn)品價(jià)格:面議
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    更新日期:2024-08-07
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